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2天前 - 图料称在今年12月上海微电子将会下线首台采用ArF光源可生产11纳米SSA800/10W光刻机,采用华卓精科工作台套刻精度指标优于1.7nm,借助多重曝光以后有生产7nm
成都兴林真空设备有限公司企业定做介绍光刻机(掩模对准曝光机)原理、工艺,光刻机排名及设备价格,是芯片、极紫外、高精度、油浸式、单面、接触式国内领先光刻
3天前 - 投资者提问:您好,贵公司子公司旭电科技其网站显示:已开发生产出了光刻机。请问达况是否属实,谢谢董秘回答(贝斯特SZ300580):你好,公司参股子公司
曝光机测试与测量光学检测分光光谱仪/钢管仪光功率计反射率/穿透率测量标准光源/积分球影像品质测试计量校准多功能校准器高精度数字万
4天前 - 荷兰不卖超新极紫外光EUV光刻机,这个光刻机上10万多个零部件,有没有中国重要部件,是否能反制裁荷兰,他们断供? 这个玩笑一点
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2024-06-11
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2024-06-11
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2024-06-11